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    Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM

    簡要描述:Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM
    高反射率和低群延遲色散,以800 nm為中心的寬區域內,具有硬介電高反射或離子束濺射鍍膜。

    • 產品品牌:Eksma
    • 廠商性質:經銷商
    • 更新時間:2025-11-01
    • 訪  問  量:1614

    詳細介紹

    品牌Eksma價格區間面議
    組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

    Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM


    Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM

    高反射率和低群延遲色散,以800 nm為中心的寬區域內,具有硬介電高反射或離子束濺射鍍膜。

    產品介紹

    Ø在以800 nm為中心的寬區域中具有高反射率和低群延遲色散

    Ø硬質介電體高反射或離子束濺射鍍膜

    Ø激光損傷閾值> 50 mJ / cm2,50 fsec脈沖,800 nm典型值

    EKSMA Optics提供720-880 nm鍍膜的寬帶低GDD超快激光反射鏡。這些超快反射鏡設計用于Ti:Sapphire激光器的一階諧波。

    標準反射鏡具有高反射率(> 99%),并且為082-7288HHR物品(UV FS,Ø25.4x 6 mm)定了更高的反射率(> 99.8%)。

    EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
    EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
    EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

    產品型號

    BK7

    型號

    波長

    材料

    尺寸

    AOI

    R, %(S+P)/2

    071-7288

    720-880 nm

    BK7

    ø12.7 x 3 mm

    45°

    99.0%

    071-7288-i0

    720-880 nm

    BK7

    ø12.7 x 3 mm

    99.0%

    071-7288T6

    720-880 nm

    BK7

    ø12.7 x 6 mm

    45°

    99.0%

    071-7288T6-i0

    720-880 nm

    BK7

    ø12.7 x 6 mm

    99.0%

    072-7288

    720-880 nm

    BK7

    ø25.4 x 6 mm

    45°

    99.0%

    072-7288-i0

    720-880 nm

    BK7

    ø25.4 x 6 mm

    99.0%

    074-7288

    720-880 nm

    BK7

    ø38.1 x 8 mm

    45°

    99.0%

    074-7288-i0

    720-880 nm

    BK7

    ø38.1 x 8 mm

    99.0%

    075-7288

    720-880 nm

    BK7

    ø50.8 x 8 mm

    45°

    99.0%

    075-7288-i0

    720-880 nm

    BK7

    ø50.8 x 8 mm

    99.0%

    077-7288

    720-880 nm

    BK7

    ø76.2 x 12.7 mm

    45°

    99.0%

    077-7288-i0

    720-880 nm

    BK7

    ø76.2 x 12.7 mm

    99.0%

    078-7288

    720-880 nm

    BK7

    ø101.6 x 15 mm

    45°

    99.0%

    078-7288-i0

    720-880 nm

    BK7

    ø101.6 x 15 mm

    99.0%

    UVFS

    型號

    波長

    材料

    尺寸

    AOI

    R, %(S+P)/2

    081-7288

    720-880 nm

    UVFS

    ø12.7 x 3 mm

    45°

    99.0%

    081-7288-i0

    720-880 nm

    UVFS

    ø12.7 x 3 mm

    99.0%

    081-7288T6

    720-880 nm

    UVFS

    ø12.7 x 6 mm

    45°

    99.0%

    081-7288T6-i0

    720-880 nm

    UVFS

    ø12.7 x 6 mm

    99.0%

    082-7288

    720-880 nm

    UVFS

    ø25.4 x 6 mm

    45°

    99.0%

    082-7288-i0

    720-880 nm

    UVFS

    ø25.4 x 6 mm

    99.0%

    082-7288HHR

    720-880 nm

    UVFS

    ø25.4 x 6 mm

    45°

    99.8%

    082-7288HHR-i0

    720-880 nm

    UVFS

    ø25.4 x 6 mm

    99.9%

    084-7288

    720-880 nm

    UVFS

    ø38.1 x 8 mm

    45°

    99.0%

    084-7288-i0

    720-880 nm

    UVFS

    ø38.1 x 8 mm

    99.0%

    085-7288

    720-880 nm

    UVFS

    ø50.8 x 8 mm

    45°

    99.0%

    085-7288-i0

    720-880 nm

    UVFS

    ø50.8 x 8 mm

    99.0%

    087-7288

    720-880 nm

    UVFS

    ø76.2 x 12.7 mm

    45°

    99.0%

    087-7288-i0

    720-880 nm

    UVFS

    ø76.2 x 12.7 mm

    99.0%

    088-7288

    720-880 nm

    UVFS

    ø101.6 x 15 mm

    45°

    99.0%

    088-7288-i0

    720-880 nm

    UVFS

    ø101.6 x 15 mm

    99.0%

     

    規格:

    鍍膜

    硬電介質高反射或離子束濺射

    入射角

    0或45±3°

    專為平均偏振而設計

    R =(Rs + Rp)/ 2

    激光損傷閾值

    > 50 mJ / cm2,50 fsec,800 nm典型值

     

    基材:

    材料

    UV級熔融石英或BK7玻璃

    S1表面平整度

    633 nm時為λ/ 10

    S1表面質量

    20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

    S2表面質量

    簡單拋光

    直徑公差

    +0.00mm-0.12mm

    厚度公差

    ±0.25

    <3分鐘

    倒角

    在45°典型值為0.3mm

    EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
    EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
    EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

    公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

    我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

    EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

    公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

    該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

     

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